描述(shù)：Q-POD Element終(zhōng)端(duān)精(jīng)製器(qì)市場(cháng)上(shàng)*一家(jiā)采用(yòng)超(chāo)純水機與(yǔ)終端(duān)精(jīng)製(zhì)器(qì)分離(lí)的設計(jì)，即一(yī)台超純(chún)水(shuǐ)機可生產(chǎn)電阻率為(wéi)18.2MΩ*cm，TOC5ppb的超(chāo)純(chún)水。
詳(xiáng)細資(zī)料(liào)
Q-POD Element終(zhōng)端精製(zhì)器詳細(xì)介(jiè)紹(shào)
測(cè)量技(jì)術和檢測技術(shù)的新(xīn)近發(fā)展(zhǎn)極大(dà)地(dì)提高(gāo)了現代(dài)分(fēn)析儀器(qì)的靈敏度(dù)。使用(yòng)諸(zhū)如(rú)ICP-MS技(jì)術，可以在(zài)ppt或亞(yà)ppt水平檢(jiǎn)測痕量元(yuán)素(sù)。
這些低檢(jiǎn)測(cè)限水平技術有多種新應用，例(lì)如(rú)元素指紋(wén)識別，可(kě)用(yòng)於(yú)法醫學，食品飲料(liào)工業(yè)和天體(tǐ)地質(zhì)學(xué)等眾多(duō)不同的領(lǐng)域。
低檢(jiǎn)測限水平意(yì)味著(zhuó)須多加注意實(shí)驗設(shè)備(bèi)，操作(zuò)人員，實(shí)驗(yàn)室環境以及所用的(dí)樣品容器(qì)，因為(wéi)這些因素都可能(néng)影響(xiǎng)實(shí)驗結(jié)果(guǒ)。
分析過程中使用(yòng)的超(chāo)純水(shuǐ)也是一樣。由於(yú)樣(yàng)品(pǐn)製備(bèi)需要(yào)溶解和(hé)稀(xī)釋(shì)過程，因(yīn)此使用(yòng)這些靈敏技術分(fēn)析(xī)的(dí)樣品(pǐn)中90%以上(shàng)是高純度(dù)的(dí)純水(shuǐ)。高純(chún)度(dù)的純水還(huán)用於清(qīng)洗(xǐ)裝(zhuāng)樣(yàng)品的(dí)容器(qì)，清(qīng)洗塑料器(qì)具(jù)，製備空(kōng)白(bái)和標準(zhǔn)溶(róng)液(yè)。
進行(háng)痕量(liáng)分析(xī)的(dí)實(shí)驗室(shì)必(bì)須有(yǒu)可(kě)靠(kào)的(dí)超(chāo)純水來(lái)源，且該(gāi)超(chāo)純(chún)水(shuǐ)必須始終(zhōng)保(bǎo)持低的(dí)元素(sù)濃度。
專門設(shè)計(jì)的Q-POD Element ，與(yǔ)Milli-Q Integral或(huò)Milli-Q Advantage超純(chún)水(shuǐ)純化(huà)係統聯(lián)合使用，可(kě)以達(dá)到(dào)此目的(dí)。Q-POD Element終端(duān)精製(zhì)器的(dí)設(shè)計(jì)是(shì)由精通IC，ICP-MS以及(jí)GF-AAS等(děng)痕(hén)量(liáng)分(fēn)析方法(fǎ)的科學家(jiā)開發(fā)的(dí)。
Q-POD Element終(zhōng)端精製(zhì)器(qì)技術參(cān)數：
電阻率 18.2MΩ-cm @ 25℃
元(yuán)素水平 ppt或亞ppt級（參見(jiàn)元素(sù)列(liè)表(biǎo)）
顆粒 < 1/l（=""> 0.5 μm）
矽 < 1="" ppb="">
TOC < 5="">
細菌 < 0.01="" cfu="">
手(shǒu)機
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