lab disc pattern

描(miáo)述：lab disc pattern磁(cí)力攪(jiǎo)拌器(qì)采(cǎi)用(yòng)**的(dí)磁(cí)力綫(xiàn)圈技(jì)術(shù)，內部無(wú)運動(dòng)部件，無磨(mó)損(sǔn)。為了(liǎo)確保更好的攪(jiǎo)拌，每隔(gé)30秒自動改(gǎi)變(biàn)攪(jiǎo)拌(bàn)轉向。

更(gēng)新時間：2025-11-08

產品型號(hào)：

廠商(shāng)性(xìng)質：生產廠(chǎng)家

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詳情(qíng)介紹

詳細(xì)資(zī)料

lab disc pattern磁力(lì)攪(jiǎo)拌器(qì)詳細介(jiè)紹(shào)：

超薄(báo)磁(cí)力(lì)攪拌器，采用磁(cí)力綫(xiàn)圈技(jì)術，內部(bù)無運(yùn)動(dòng)部(bù)件(jiàn)，無磨損(sǔn)。為了(liǎo)確(què)保(bǎo)更(gēng)好的(dí)攪(jiǎo)拌(bàn)，每隔30秒自(zì)動改(gǎi)變攪(jiǎo)拌(bàn)轉(zhuǎn)向(xiàng)。
- 高IP保護(hù)等(děng)級(jí)(IP 65)
- 盤(pán)麵和外(wài)殼(ké)采(cǎi)用(yòng)耐(nài)化(huà)學腐蝕(shí)材料精(jīng)製(zhì)而成
- 防滑安(ān)全支腳(jiǎo)

lab disc pattern磁力攪拌器(qì)技術(shù)參(cān)數(shù)：

攪拌(bàn)點位數目(mù) 1
每個攪(jiǎo)拌點位*大攪(jiǎo)拌量 (H2O) 0.8 l
電機輸入功率(shuài) 5 W
電(diàn)機輸出功率 3 W
速度(dù)範圍 15 - 1500 rpm
攪(jiǎo)拌子*大(dà)長(cháng)度(dù) 25 mm
工(gōng)作盤材質聚酯薄(báo)膜(mó)
工作盤外形(xíng)尺寸(cùn) ? 100 mm
外形尺寸(cùn) 117 x 12 x 180 mm
重(zhòng)量 0.3 kg
允許(xǔ)環境(jìng)溫(wēn)度 5 - 40 °C
允許相對濕(shī)度 80 %
DIN EN 60529 保護方式(shì) IP 65
電(diàn)壓 100 - 240 V
頻率(shuài) 50/60 Hz
儀器(qì)輸(shū)入功率(shuài) 5 W

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